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SiC高溫退火爐

專門用于碳化硅（SiC）氮化鎵（GaN）器件的離子注入后退火工藝，采用特殊的無金屬加熱設(shè)計(jì)使加工溫度提高到2000℃。 適用工藝：SiC和GaN晶圓的退火

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